碳化硅動態(tài)光散射法
前面所講的激光散射法可以理解為靜態(tài)光散射法。當(dāng)碳化硅微粉顆粒小到一定的程度時(shí)，顆粒在液體中受布朗運(yùn)動的影響，呈一種隨機(jī)的運(yùn)動狀態(tài)，其運(yùn)動距離與運(yùn)動速度與顆粒的大小有關(guān)。通過相關(guān)技術(shù)來識別這些顆粒的運(yùn)動狀態(tài)，就可以得到碳化硅粒度分布了。動態(tài)光散射法，主要用來測量納米材料的粒度分布。國外已有現(xiàn)成的儀器，國內(nèi)目前還沒有。
金蒙新材料公司最常用的碳化硅粒度檢測法一般都是電阻法和激光法。
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