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    國產(chǎn)碳化硅襯底龍頭山東天岳科創(chuàng)板上市[ 01-04 10:44 ]
    12月30日,國內(nèi)碳化硅襯底材料企業(yè)山東天岳先進科技股份有限公司公告首次公開發(fā)行股票并在科創(chuàng)板上市。本次發(fā)行價格82.79元/股,預(yù)計募集資355757.7783萬元(約35.6億元),高于此前招股意向書中披露的200000萬元(20億元)。 9月7日,天岳先進首發(fā)申請獲上交所上市委員會通過,擬募集資金20億元主要用于碳化硅半導(dǎo)體材料項目,以提高公司碳化硅襯底的產(chǎn)業(yè)化能力。招股書中提到,全球碳化硅半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)市場快速發(fā)展并已迎來爆發(fā)期,國際巨頭紛紛加大投入實施擴產(chǎn)計劃,為了追趕與頭部企業(yè)之間在產(chǎn)能上的差距,山東
    碳化硅反射鏡的制備與加工[ 01-03 08:52 ]
    把一塊粗糙的、灰黑的碳化硅陶瓷塊鏡坯打造為光可鑒人的反射鏡,變化之大完全不亞于丑小鴨變天鵝。如何在得到較高表面質(zhì)量的同時實現(xiàn)快速加工,則是材料學(xué)界一直以來的研究重點。 1.鏡坯的制造 制備SiC反射鏡坯的工藝有許多種,除了熱壓燒結(jié)、氣相沉積外,最有應(yīng)用價值的是反應(yīng)燒結(jié)法,具有成本低和可實現(xiàn)凈尺寸燒結(jié)等優(yōu)點。 反應(yīng)燒結(jié)法流程為:利用SiC粉制得所需形狀的坯體,然后將該坯體在Si氣氛下燒結(jié)。整個工藝中關(guān)鍵點有以下幾個:①燒結(jié)體中盡可能少氣孔和裂紋;③坯體具有輕量化結(jié)構(gòu)。 2.銑磨粗拋 剛燒
    硼、碳和鋁燒結(jié)助劑對SiC陶瓷燒結(jié)的影響[ 12-30 14:42 ]
    研究發(fā)現(xiàn),SiC陶瓷燒結(jié)時可加入B、C、Al來實現(xiàn)致密化,B系與C系燒結(jié)助劑的添加能夠降低SiC晶界能與表面能的值,增強擴散的驅(qū)動力,而Al系燒結(jié)助劑可以以固溶的方式活化晶格,促進致密化進行。 對于無壓或熱壓燒結(jié)SiC,在不使用燒結(jié)助劑情況下基本難以實現(xiàn)致密燒結(jié),但燒結(jié)助劑加入不當(dāng)又會使材料性能惡化。SiC陶瓷的力學(xué)性能受游離C的分布影響很大,而B的分布又會使游離C的晶粒由等軸狀生長為長柱狀,起到界間強化的作用。另外,溫度的升高會促進基體晶粒的多邊形化,但過大的基體晶粒尺寸又會對晶界處游離C的生長產(chǎn)生抑制作用
    氟化物燒結(jié)助劑對SiC陶瓷燒結(jié)的影響[ 12-30 14:39 ]
    有研究表明,SiC陶瓷樣品的密度與熱導(dǎo)率隨YF3的加入顯示先增后減的變化,當(dāng)加入5%的YF3時,密度與熱導(dǎo)率均達到最大。YF3作為燒結(jié)助劑可以提高SiC陶瓷的致密度和熱導(dǎo)率主要是由于YF3可以與SiO2反應(yīng)生成第二相,同時達到除氧的目的,凈化SiC的晶格。而生成的液相也可以促進燒結(jié)的進行,降低燒結(jié)溫度。 密度與熱導(dǎo)率出現(xiàn)先增后減的變化,原因可能有如下兩點: 第一,添加適量燒結(jié)助劑形成的液相可以使陶瓷致密化程度提高。YF3添加量過少,不足以形成足夠的液相,而過量的YF3又會產(chǎn)生過多液相,粘度增加,均不利于
    阻礙SiC陶瓷燒結(jié)的因素[ 12-30 14:34 ]
    SiC的構(gòu)成單元為Si與C原子比為1:1的正四面體,在SiC晶格中,Si與C之間的平均鍵能為300kJ/mol,共價鍵與離子鍵比值約為4:1,這使得其難以燒結(jié)成致密陶瓷。阻礙SiC陶瓷燒結(jié)的因素有以下兩個方面: ①熱力學(xué)方面 SiC的晶界能較高,粉體顆粒表面能相對較低,SiC陶瓷燒結(jié)推動力低,燒結(jié)難度增大。目前可通過引入燒結(jié)助劑、選用納米級原料細粉及施加外部壓力的方式來促進燒結(jié)。 ②動力學(xué)方面 SiC晶格原子間的鍵能使得物質(zhì)遷移所需能量高,物質(zhì)難以擴散,而蒸發(fā)—凝聚傳質(zhì)至少需要蒸
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